Ehrendoktortitel Finnische Universität zeichnet Anjana Devi aus
Die Chemikerin ist Spezialistin für ultradünne Schichten aus teils nur einer einzigen Lage an Atomen.
Die Entwicklung und Anwendung neuer chemischer Vorstufen, sogenannter Präkursoren, für die Herstellung ultradünner Schichten, die teils nur aus einer Atomlage bestehen, sind die Spezialität von Prof. Dr. Anjana Devi, Leiterin der Arbeitsgruppe Chemie Anorganischer Materialien der RUB. Solche Schichten werden zum Beispiel für die Herstellung von Solarzellen, Sensoren, Displays oder Bauelementen für die Mikro- und Optoelektronik gebraucht. Für ihre Arbeiten auf diesem Gebiet wurde Anjana Devi von der finnischen Aalto-Universität mit der Ehrendoktorwürde ausgezeichnet.
Gemeinschaften zusammengebracht
Die Schlüsseltechnologien, mit denen Devis Team arbeitet, heißen Atomlagenabscheidung (englisch Atomic Layer Deposition, ALD) und chemische Gasphasenabscheidung (englisch Chemical Vapor Deposition, CVD). In beiden Fällen geht es darum, sehr dünne Schichten eines Materials, zum Beispiel Metalle oder Halbleitermaterialien, auf ein Trägermaterial aufzubringen und dabei den Einfluss neu entwickelter Präkursoren zu untersuchen. „Anjana Devi hat dazu beigetragen, die ALD- und die CVD-Gemeinschaften zusammenzubringen, indem sie große internationale Konferenzen organisiert und EU-Projekte auf diesem Gebiet geleitet hat“, heißt es in der Begründung der Aalto-Universität. Seit 2014 besteht ein enger Austausch des Bochumer Teams mit der finnischen Uni, der auch die gemeinschaftliche Betreuung von Doktoranden beinhaltet.
