Auszeichnung
Lukas Mai erhält einen Promotionspreis
Die Gesellschaft der Chemiker prämiert seine Dissertation, die Chemie, Material- und Ingenieurwissenschaften berührt.
Dr. Lukas Mai von der Fakultät für Chemie und Biochemie erhält einen Preis der Gesellschaft der Chemiker (GDCh). Dabei handelt es sich um den H.C.-Starck-Tungsten-Promotionspreis 2021 der GDCh-Fachgruppe Festkörperchemie & Materialforschung. Prämiert wird Mais Dissertation „Investigation of Amino-Alkyl Coordinated Complexes as New Precursor Class for Atomic Layer Deposition of Aluminum, Tin and Zinc Oxide Thin Films and Their Application“. Die Urkunde und das Preisgeld von 2.500 Euro werden Ende August beim Wissenschaftsforum Chemie verliehen.
Interdisziplinäres Umfeld
Die ausgezeichnete Arbeit ist in einem interdisziplinären Umfeld zwischen Chemie, Material- und Ingenieurwissenschaften in der AG Chemie Anorganischer Materialien entstanden. Dabei wurden neue Chemikalien, sogenannte Präkursoren, untersucht, die für die Abscheidung von ultradünnen Schichten mittels Atomlagenabscheidung eingesetzt wurden. Diese nanostrukturierten Dünnschichten konnten dann in aktuellen Anwendungsbereichen als Gassensoren, Gasbarriere-Schichten oder in Transistoren getestet werden. Die beiden Projekte SFB-TR 87 und EFRE-FunALD, innerhalb welcher die Arbeit angefertigt wurde, haben für diese anwendungsorientierte Forschung die ideale Plattform dargestellt.
Die Atomlagenabscheidung oder Atomic Layer Deposition wird in der Mikroelektronik unter anderem für Computerchips, Displays und Sensoren eingesetzt, um verschiedene Materialien mit der Dicke von wenigen Nanometern (ein Millionstel eines Millimeters) auf Oberflächen aufzubringen. Dafür werden chemische Verbindungen, sogenannte Präkursoren, genutzt, welche volatil, thermisch stabil und reaktiv sein müssen. In der Industrie werden häufig Alkylverbindungen eingesetzt, die diese Bedingungen zwar erfüllen, aber sich an der Luft selbst entzünden und somit hoher Sicherheitsvorkehrungen bedürfen. Lukas Mai verwendete einen sogenannten 3-(Dimethylamino)propyl (DMP) Liganden, um Aluminium-, Zinn- und Zinkverbindungen zu stabilisieren, die dadurch sicherer sind und weiterhin alle Präkursorbedingungen erfüllen.
